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一种非破坏性垂直腔面发射激光器电流限制孔径测定装置
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本实用新型公开了一种非破坏性垂直腔面发射激光器电流限制孔径测定装置，该改装置由探针台，直流电源，显微镜，光学衰减片，CCD探测器和计算机组成。本实用新型利用激光器激射前的荧光光斑的形状来测定电流限制孔径的形状大小，可测量任意波段面发射激光器电流限制孔径。本装置测量误差为1μm，具有搭配简单，非破坏性测量，片上测试，实体测量等优点，并且在刻蚀光子晶体或者分布孔结构后可观测氧化孔与光子晶体缺陷孔之间的位置关系。
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专利基本信息 ：
专利类型： 实用新型
申请(专利)号： CN201020580090.3
申请日期： 2010-10-22
公开(公告)日： 2011-08-03
公开(公告)号： CN201917324U
申请(专利权)： 北京工业大学
法律状态： 未缴年费
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