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摘要：
本发明涉及一种减小准分子激光刻蚀横向影响区的装置，属于准分子激光微加工领域。主要包括有激光器(1)、掩模(4)、投影物镜(6)、试样(7)，其中，激光器1发出的主光束经过第一反射镜(2)、第二反射镜(3)到达掩模(4)，将掩模(4)的图案经过第三反射镜(5)反射到投影物镜(6)，投影物镜(6)缩小后的图案成像到试样(7)的表面，进行刻蚀，其特征在于：试样(7)设置在水槽(8)的底部，水槽(8)内注有液体，试样(7)的刻蚀表面低于液面。采用本发明进行在液体下加工，提高了准分子激光刻蚀微结构表面形貌的质量，获得高质量的微细加工结构，实施方法简单，使准分子激光微加工工艺进一步完善。
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专利基本信息 ：
专利类型： 发明申请
申请(专利)号： CN200610169837.4
申请日期： 2006-12-29
公开(公告)日： 2007-07-11
公开(公告)号： CN1994653A
申请(专利权)： 北京工业大学
法律状态： 撤回
归属院系：
